Công nghệ chống nước mới mà Apple đang nghiên cứu và đề cập đến trong bằng sáng chế đó, khác biệt hoàn toàn so với các đối thủ như Sony hay Samsung đang sử dụng trên các mẫu smartphone hay tablet hiện nay. Thay vì thiết kế bộ vỏ có khả năng chống nước xâm nhập từ bên ngoài tại các cổng nối phải có nút silicon bảo vệ, phương pháp mới của Apple sẽ phủ một lớp hóa chất có độ mỏng ở mức micromet (dao động trong khoảng từ 1 – 10 micromet) trên tất cả các bo mạch và linh kiện. Từ đó, toàn bộ những phần được phủ lớp bảo vệ đặc biệt này sẽ hoàn toàn được cách ly với môi trường.
Công nghệ chống nước mới của Apple sẽ không làm ảnh hưởng đến không gian và kết cấu của thiết bị, và như vậy thiết kế chung vẫn đảm bảo độ mỏng và nhẹ của sản phẩm. Apple gọi quá trình phủ lớp hóa chất đặc biệt này là PACVD (plasma-assisted chemical vapor deposition, nghĩa là hóa hơi hóa chất có trợ giúp của plasma, sau đó để cho ngưng tụ).
Hiện chưa rõ khi nào, Apple sẽ mang công nghệ chống nước PACVD lên các sản phẩm mới của mình. Nhưng trên hình vẽ minh họa cho bằng sáng chế của mình, Apple miêu tả bằng thiết kế của một mẫu iPhone. Người dùng hoàn toàn có thể hy vọng về thế hệ iPhone mới ra mắt trong năm 2015 này, sẽ có khả năng chống nước không kém gì các mẫu Xperia Z-series cao cấp của Sony. Bằng sáng chế này được nộp cho USTPO từ tháng 3/2014 dưới tên đồng tác giả phát minh gồm Nicholas G. Merz, Scott A. Myers, Gregory N. Stephens và Joseph C. Poole.
